Un brevetto di SMEE, azienda cinese, potrebbe trasformare l’industria dei semiconduttori, sfidando la supremazia di ASML nella produzione di chip.
La SMEE (Shanghai Micro Electronics Equipment), azienda cinese specializzata in macchinari per semiconduttori, ha depositato un brevetto per una nuova tecnica legata alla litografia a ultravioletti estremi (EUV). La tecnologia rappresenta un elemento chiave nella produzione di chip ad alte prestazioni, utilizzati in dispositivi avanzati e più efficienti dal punto di vista energetico. Con l’arrivo di questa innovazione, i produttori cinesi di hardware potrebbero essere in grado di superare le difficoltà dovute alle sanzioni imposte dagli Stati Uniti.
Tra i produttori più colpiti dalle sanzioni, Huawei ha dovuto fare i conti con il blocco delle tecnologie di importazione. Nonostante ciò, l’azienda ha dimostrato di poter ridurre la sua dipendenza dalle forniture esterne, immettendo sul mercato il Huawei Pura 70, che vanta il 90% dei componenti prodotti localmente. Attualmente, il leader mondiale nella produzione di macchinari per la litografia è ASML, ma a causa degli embarghi, ha smesso di vendere le sue tecnologie più avanzate alla Cina. Questo ha lasciato i produttori cinesi in una posizione di svantaggio, ma con l’introduzione del nuovo brevetto di SMEE, il panorama potrebbe cambiare.
Il brevetto, registrato nel marzo 2023 e pubblicato di recente dalla National Intellectual Property Administration cinese, rappresenta un importante progresso per la Cina nella produzione di chip avanzati. Anche se i dettagli tecnici rimangono segreti, è chiaro che le aziende cinesi stanno compiendo passi concreti verso la creazione di processori più evoluti, capaci di competere con le soluzioni internazionali.
La principale fonderia cinese, SMIC (Semiconductor International Manufacturing Corporation), ha già fatto passi avanti in questo campo, anche se ha dovuto ricorrere a soluzioni alternative per riuscire a produrre il processore del Huawei Mate 60 utilizzando la litografia a 7 nanometri. Processo che ha incontrato alcune difficoltà, con rese produttive basse; un problema che SMEE spera di risolvere con la sua nuova tecnologia.
Le macchine per la litografia EUV, basate sull’uso di onde di luce da 13,5 nanometri, permettono di creare processori all’avanguardia, essenziali per la produzione di chip con dimensioni inferiori ai 7 nanometri. Con l’adozione di queste attrezzature avanzate, Huawei potrebbe guadagnare un vantaggio competitivo rispetto ai maggiori produttori globali di smartphone e dispositivi elettronici, rafforzando la propria posizione nel mercato internazionale.
